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軍工航天新聞

上海光機所研制出多路并行激光直寫系統(tǒng)

激光制造商情 來源:佳工機電網(wǎng)2010-12-15 我要評論(0 )   

11 月,中科院上海光學(xué)精密機械研究所周常河研究員課題組成功研制出多路激光直寫裝置。該裝置采用 405nm 的藍(lán)光激光光源,尼康 0.9 數(shù)值孔徑的透鏡,以及自動聚焦系統(tǒng),...

11月,中科院上海光學(xué)精密機械研究所周常河研究員課題組成功研制出多路激光直寫裝置。該裝置采用405nm的藍(lán)光激光光源,尼康0.9數(shù)值孔徑的透鏡,以及自動聚焦系統(tǒng),實現(xiàn)了25路高精度并行激光直寫,刻寫光斑的線寬小于600nm。相比于傳統(tǒng)激光直寫系統(tǒng),該裝置在刻寫速度和效率方面有了很大的提高,幾十倍地縮短了激光直寫時間,可以快速制作大尺寸、高精度衍射光學(xué)元件。

激光束直寫技術(shù)是一種無需掩膜的光刻技術(shù),基本工作原理是由計算機控制高精度激光束或樣品掃描,在光刻膠上或光敏材料上刻寫出掩膜圖形。傳統(tǒng)的激光直寫裝置由于受單路激光刻寫的限制,效率低,時間長,只能應(yīng)用于中、小尺寸光學(xué)器件的生產(chǎn)和制備。該裝置的成功研制,有可能為中國的半導(dǎo)體制造及大尺寸微納光學(xué)加工領(lǐng)域提供一種高性能、低成本的技術(shù)手段,同時,也將推動我國在納米光刻,微納光學(xué)制造等領(lǐng)域的進(jìn)步,對于研制我國大科學(xué)工程、裝置以及天文、航天、航空、印刷等行業(yè)所需要的大尺寸光學(xué)元件,起到積極的推動作用。

 

 

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