8月2日，國家科技部組織專家組對以中科院長春光學精密機械與物理研究所為依托單位的國家光柵制造與應用技術工程研究中心（簡稱“國家光柵工程中心”）進行現(xiàn)場評估。

國家光柵工程中心于2007年底經(jīng)國家科技部批復同意建設，其定位為面向我國科技發(fā)展相關重大領域需求和光譜儀器產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展的需要，開展光柵設計、制造、檢測等技術的創(chuàng)新和工程化研究，組織開展光柵應用技術研發(fā)、推廣和成果轉(zhuǎn)化。

長春光機所是中國光柵的發(fā)源地，也是國內(nèi)研制光譜儀器最早的科研單位之一。國家光柵工程中心依托長春光機所的技術基礎和科研力量，扎實推進各項工作。目前，中心已有5臺光柵刻劃機，具備刻劃300mm×300mm以下面積、3600gr/mm以下刻槽密度光柵的能力，并正在財政部支持下開展能夠刻劃400mm×500mm以下面積、6000gr/mm以下刻槽密度光柵的大光柵刻劃機的研制工作。此外，中心擁有光柵母版457塊，光柵產(chǎn)品達到行業(yè)全覆蓋，形成了遍及全國的由200多家單位組成的用戶群。

在三年多的組建期間，國家光柵工程中心的多項科研工作在一些重要的工程任務中發(fā)揮了作用，光柵技術的成熟度基本達到了工程化水平，在成果輻射、吸引用戶、技術擴散和引領行業(yè)發(fā)展方面起到了中心的作用，實現(xiàn)了“人才、技術、經(jīng)濟”的三個良性循環(huán)，走上了一條“快速、協(xié)調(diào)、可持續(xù)”的發(fā)展道路。面向國家戰(zhàn)略目標，圍繞行業(yè)發(fā)展需求，國家光柵工程中心將在已有基礎上，繼續(xù)發(fā)揮“國家工程中心”的作用，作出新的貢獻