佳能美國公司近日表示：其半導體設備分部計劃在2001年大規(guī)模生產(chǎn)FPA-5000AS2產(chǎn)品，即第二代200mm/300mm ArF激態(tài)原子激光掃描'>激光掃描器。公司FPA-5000AS1產(chǎn)品中的第一代300mm ArF已于去年起在SELETE中使用。佳能公司表示目前正在擴大生產(chǎn)線，以便能適應半導體業(yè)的快速發(fā)展，并開發(fā)用于0.13微米以下電路圖成像的蝕刻工具。佳能公司將在日本宇都宮光學廠生產(chǎn)新掃描器。公司最近在該廠投資，以擴大其光刻掃描器和平板顯示的鏡面投影校準器的生產(chǎn)能力。宇都宮工廠同時也是新建成的182，800平方英尺佳能光學研發(fā)基地。
為了滿足ArF激態(tài)原子激光掃描器的巨大需求，佳能公司還計劃新建一個工廠以增加氟化鈣(CaF2)透鏡原料的供應。佳能公司在Yuuki 市 Ibaragi縣征地9公頃，開始建設一個107500平方英尺的工廠，準備在2001年中期生產(chǎn)出CaF2玻璃。工廠將安裝一個電子熔爐以去除鈣氟化物礦石中的雜質，佳能預計投資將達到四千萬美元(40億日元)。
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