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光學(xué)元件

光學(xué)表面的光散射測(cè)量方法(一)

星之球激光 來(lái)源:《常熟理工學(xué)院學(xué)報(bào)》22012-08-28 我要評(píng)論(0 )   

光學(xué) 表面的光散射測(cè)量方法為目前測(cè)量光學(xué)元件表面散射特性的一種主要技術(shù),主要包括角分辨測(cè)量法和總積分測(cè)量法。本文對(duì)上述兩種測(cè)量方法的基本原理和實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行了系...

     光學(xué)表面的光散射測(cè)量方法為目前測(cè)量光學(xué)元件表面散射特性的一種主要技術(shù),主要包括角分辨測(cè)量法和總積分測(cè)量法。本文對(duì)上述兩種測(cè)量方法的基本原理和實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述,并對(duì)兩種方法進(jìn)行了比較分析。最后討論了散射測(cè)量方法發(fā)展的趨勢(shì)。

  隨機(jī)粗糙光學(xué)表面的粗糙度是量度光學(xué)元件表面特征的一項(xiàng)重要指標(biāo),通常為納米量級(jí)甚至更低。隨著光學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展及其應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,光學(xué)元件表面粗糙度及其引起的光散射越來(lái)越受到人們的普遍關(guān)注,已經(jīng)成為光學(xué)元件散射特性研究中的基礎(chǔ)和關(guān)鍵問(wèn)題之一。利用光散射測(cè)量光學(xué)粗糙表面是目前發(fā)展較為快速和成功的技術(shù),人們對(duì)這種技術(shù)做了大量的研究工作,使得光散射系統(tǒng)已經(jīng)成為測(cè)量光學(xué)元件表面質(zhì)量的主要手段之一。概括起來(lái),光學(xué)表面的散射測(cè)量方法主要包括角分辨散射測(cè)量法和總積分散射測(cè)量法,二者分別以矢量散射理論和標(biāo)量散射理論為理論基礎(chǔ)。

 

  1角分辨散射測(cè)量法

  角分辨散射(AngleResolvedScattering,簡(jiǎn)稱(chēng)ARS)測(cè)量法是利用散射光的光強(qiáng)及其分布來(lái)測(cè)量表面粗糙度參數(shù)。一束激光投射到樣品表面上后,其鏡向方向的反射光和散射光分布在一個(gè)半球面內(nèi),半球面內(nèi)各點(diǎn)的光強(qiáng)不同。當(dāng)表面非常光滑時(shí),光強(qiáng)主要分布在鏡向方向。表面越粗糙,鏡向方向的反射光強(qiáng)就越弱,其它點(diǎn)的散射光就越強(qiáng)。用光探測(cè)器接收這些不同分布的光強(qiáng),然后經(jīng)過(guò)統(tǒng)計(jì)學(xué)和光譜分析或者經(jīng)過(guò)光的反射散射計(jì)算,就可以得到被測(cè)表面的粗糙度值。

  在A(yíng)RS測(cè)量裝置中,通常以樣品為中心,光電探測(cè)器圍繞樣品在入射平面內(nèi)作接近180°或360°的轉(zhuǎn)動(dòng),從而測(cè)得非入射平面內(nèi)的散射光。樣品一般能轉(zhuǎn)動(dòng)和平動(dòng),以測(cè)量斜入射下的散射特性和掃描樣品上各點(diǎn)的散射系數(shù)。在測(cè)量中,散射信號(hào)很小,通常要采用鎖相放大器。此外,由于測(cè)量數(shù)據(jù)很多,所以常常采用計(jì)算機(jī)進(jìn)行自動(dòng)采集和分析數(shù)據(jù)。圖1即為一種典型的角分辨散射測(cè)量?jī)x器。

      

2 總積分散射測(cè)量法

  在總積分散射(TotalIntegratedScattering,簡(jiǎn)稱(chēng)TIS)測(cè)量法中,入射光以很小的入射角照射到隨機(jī)粗糙表面上,用積分球收集粗糙表面散射的漫反射光或者包含鏡向反射在內(nèi)的總體反射光。標(biāo)量散射理論在微粗糙度條件下建立起了樣品表面最基本的綜合統(tǒng)計(jì)特征參數(shù)-均方根(RootMeanSquare,簡(jiǎn)稱(chēng)RMS)粗糙度σ與其所有反射方向上的總積分散射TIS之間的關(guān)系,從而使TIS法成為一種測(cè)量表面均方根粗糙度的便捷方法。

  σ的表達(dá)式

     

  可見(jiàn),TIS與反映物體表面不規(guī)則起伏程度的RMS粗糙度有關(guān)。實(shí)際工作中,對(duì)于一般研磨和拋光加工所得到的表面,其微觀(guān)起伏通常具有高斯分布特征,所以根據(jù)表面均方根粗糙度就可以了解表面微觀(guān)形貌的全部統(tǒng)計(jì)特征。因此通過(guò)測(cè)量樣品表面的總積分散射就可以很方便地得出表面RMS粗糙度,并且可把它作為平面表面光滑程度的重要質(zhì)量指標(biāo)。

  TIS測(cè)量裝置主要有兩種類(lèi)型。一種裝有Coblentz半球,即內(nèi)壁鍍有鋁、銀等金屬膜的半球,激光光源垂直照射到置于半球后面的樣品上,被粗糙表面散射的光強(qiáng)由Coblentz半球采集;另一種是用積分球,光源以微小的角度照射到樣品表面上,被表面散射的偏離鏡向反射方向的那部分光強(qiáng)由積分球收集。

  圖2所示的總積分散射測(cè)量裝置具有Coblentz球,可分別進(jìn)行背散射或前散射測(cè)量,并可分別采用激光器和紫外燈作光源,可測(cè)量的波段范圍為193nm—10·6μm。此裝置還可以在真空環(huán)境或以氮?dú)鉃閮艋瘹怏w的條件下對(duì)157nm波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)量。在背散射測(cè)量過(guò)程中,利用He-Ne激光器作為光源,波長(zhǎng)為632·8nm。在2—85°的空間范圍內(nèi)被散射到后半球的光強(qiáng)被Coblentz球所收集,然后被成像到探測(cè)元件上。光線(xiàn)照射到樣品上的入射角接近于零度,鏡向反射光束通過(guò)Coblentz球的入射光孔反射出去。

 

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