1.概述和背景

Shintech開發(fā)了新功能，尤其對LC透鏡研究和設(shè)計(jì)很有幫助。

【LC透鏡需要thicker cell gap】

LC透鏡有較高的延遲值，超過幾千納米，間隙厚度需要做得更厚來得到更高的阻滯值。

【LC材料與電場】

LC材料響應(yīng)電場，更厚的間隙帶可以產(chǎn)生更高的應(yīng)用電壓，這樣，LC透鏡就要求高電勢差。

LC透鏡需要高電勢差 

2.高阻膜和頻率

有兩種模擬方法，一個是dynamics，另一種是statics，statics通常用來獲得V-T曲線圖，這里我們需要考慮statics模擬方式中電壓的意義。電壓頻率應(yīng)該為0[HZ]，換句話說，statics是在DC假設(shè)的條件下計(jì)算出來的。

我們將AC假設(shè)和高阻材料加入到新靜力學(xué)中。LC透鏡研究人員在此條件下成功地減少了應(yīng)用電壓，此為一個很大的設(shè)計(jì)技術(shù)革新。

Shintech LCD Master只能用AC假設(shè)的static和高阻材料來模擬LC透鏡

3.舉例

下圖綠色部分表示高阻層，紅色線表示電極。

下圖表示⊿nd曲線圖，延遲值取決于應(yīng)用電壓波形頻率。

4.LCD Master/3D statics與AC假設(shè)

AC假設(shè)下的Statics和高阻函數(shù)不僅能在LCD Master/2D中被執(zhí)行，在LCD Master/3D中也可被執(zhí)行，然而，三維中需要很長的時間來得到3D結(jié)果，對于3D仿真，您需要高性能計(jì)算機(jī)才能運(yùn)行得出結(jié)果。 

5.LCD Master/eWave

LCD Master 通常使用2X2或者4X4光學(xué)運(yùn)算法則，即用一階麥克斯韋方程解算器來進(jìn)行求解，然而，為了獲得更多精確的結(jié)果，也用到二階或三階麥克斯韋方程解算器，即LCD Master/eWave，開始被應(yīng)用。其特性如下：

1) LC導(dǎo)向數(shù)據(jù)，將自動輸出到eWave

2)對于LC透鏡研究者，在遠(yuǎn)場進(jìn)行參數(shù)評估是很重要的是可能的。

3) eWave使用特殊的運(yùn)算法則來減少計(jì)算時間。

6.Micro測量儀

OPTIPRO/Micro可以測量10um大小的高阻膜，LCD Master可以輸出高阻滯值，這在第三章講過，LC透鏡研究人員可以很容易地比較測量和仿真結(jié)果。

7.結(jié)論

AC假設(shè)的Statics，高阻材料和eWave，這種組合加快并保證這種高阻膜LC透鏡高科技術(shù)的發(fā)展。LC透鏡研究人員同樣也可以通過OPTIPRO/Micro產(chǎn)生的每一個彌散點(diǎn)大小確認(rèn)實(shí)際面板阻滯空間分布。