全同弱反射光纖光柵陣列

　　全同弱反射光纖陣列在分布式傳感領(lǐng)域有很重要的運(yùn)用，不僅可以極大提升FBG解調(diào)系統(tǒng)（DAS、DTS、OFDR等）的復(fù)用容量和傳感距離，而且可以進(jìn)一步空間分辨率和測(cè)量精度。結(jié)合飛秒光柵的高溫特性，可以很好運(yùn)用到油井勘探、石油化工、周界安防、橋梁大壩、航空航天等領(lǐng)域。

　　如圖2，刻寫的全同弱反射光柵陣列參數(shù)如下：中心波長(zhǎng)為1550nm，光柵長(zhǎng)度為1mm，光柵間距為5mm，光柵數(shù)量為50個(gè)，背向反射信號(hào)強(qiáng)度提升35dB，刻寫結(jié)果相對(duì)穩(wěn)定。

　　全同弱反射光纖光柵OFDR測(cè)試譜

　　上海津鐳光電科技有限公司開發(fā)的光纖光柵加工設(shè)備，采用飛秒激光直寫技術(shù)，刻寫的光柵陣列具有操作簡(jiǎn)單，無須掩模板，無須剝離涂覆層，無須載氫和二次涂覆等優(yōu)點(diǎn)，可以很大程度保持光纖原有的抗拉強(qiáng)度，所刻寫的單模光纖光柵最高可耐1000℃高溫,長(zhǎng)期穩(wěn)定性好的特點(diǎn)。